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    產品資料

    YQDH-500JJC多靶磁控濺射鍍膜機

    如果您對該產品感興趣的話,可以
    產品名稱: YQDH-500JJC多靶磁控濺射鍍膜機
    產品型號: YQDH-500JJC
    產品展商: ghitest
    產品文檔: *相關文檔

    簡單介紹

    該鍍膜機主要用於科研實驗，可製備納米和微米的單層及多層工能膜-**硬質膜，光學膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導體膜，介質膜和氧化物薄膜等多種薄膜。


    YQDH-500JJC多靶磁控濺射鍍膜機  的詳細介紹
    產品簡介
      該鍍膜機主要用於科研實驗，可製備納米和微米的單層及多層工能膜-**硬質膜，光學膜，金屬膜，鐵磁薄膜，半導體膜，介質膜和氧化物薄膜等多種薄膜。
      該鍍膜機為前開門式設計，功能強，鍍膜穩定，重複性好，操作簡便。真空室材料均采用優良材SUS304不繡鋼材料製造，規範，**，了材料的成膜*度。
      采用分子泵+直聯機械泵機組，具有抽速快，*油，操作方便快捷，易於維護的特點。
    1     鍍膜方式：可實現多靶共濺模式
    2     磁控靶：圓柱/平麵靶；
    3     進氣係統：三路流量計；
    4     鍍膜室體積：500×500×600mm3
    5     限真空度：6.7×10-5Pa; 恢複真空度：從大氣抽到6.7×10-4Pa;﹝40分鍾﹞
    6     真空抽氣係統：機械泵與分子泵組成；
    7     真空測量係統：數顯複合真空計；
    8     工作電源：真流電源500W；射頻電源500W﹝13.56MHz﹞；加熱控溫電源；
    9     工作烘烤溫度：室溫～800℃可控可調﹝PID控溫﹞；
    10    選配件：石英晶振測厚儀，冷卻水機組等；
    11    供電電源：三相AC380V，50Hz
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