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YQ-DHIP-1射頻ICP薄膜沉積裝置
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如果您對該產品感興趣的話,可以
產品名稱:
YQ-DHIP-1射頻ICP薄膜沉積裝置
產品型號:
YQ-DHIP-1
產品展商:
ghitest
產品文檔:
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簡單介紹
本裝置主要由薄膜沉積室、真空抽氣係統、氣源進氣調節係統、襯底加熱溫度控製係統等部分組成。
YQ-DHIP-1射頻ICP薄膜沉積裝置
的詳細介紹
產
品
簡
介
本裝置主要由薄膜沉積室、真空抽氣係統、氣源進氣調節係統、襯底加熱溫度控製係統等部分組成。
通過本實驗裝置可以掌握CVD(化學氣相沉積);理解CVD的成膜過程及要求,化學輸運反應的原理,等離子體CVD的原理、特點及等離子體的激勵方式;了解該在電學、光學、微電子學等領域的廣闊應用前景。
可開設的實驗
1、P型微晶矽材料及在薄膜太陽能電池上的應用;
2、矽係納米複合薄膜材料PCVD法製備;
3、電容耦合/電感耦合等離子體化學氣相沉積製備**功能薄膜。
主要參數
1、薄膜沉積室:由不鏽鋼底與玻璃鍾罩組成;**尺寸:Φ220×H230mm;
2、薄膜沉積室本底真空: ≤1Pa;
3、射頻耦合方式:電容耦合/電感耦合;射頻源功率:帶500W 13.56MHz;
4、氣路係統:由三路轉子流量計控製(可選配流量計);
5、襯底加熱溫度:室溫至300℃可控;
6、平行板電:Φ70mm;
7、工作反應氣體:由電板上微孔均勻導入;
8、真空抽氣係統:2XZ-4型旋片機械泵,4L/S,單相220V交流電源供電;
9、管道、閥門:材質使用不鏽鋼和金屬波紋管;
10、對過流過壓、斷路等異常情況進行報警,並執行相應保護措施;
11、供電電源:AC220V,50Hz,整機功率2KW。
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