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    產品資料

    ZH5502直流濺射等離子實驗裝置

    如果您對該產品感興趣的話,可以
    產品名稱: ZH5502直流濺射等離子實驗裝置
    產品型號: ZH5502
    產品展商: ghitest
    產品文檔: *相關文檔

    簡單介紹

    裝置包括可拆卸的濺射腔體、濺射靶台、真空抽氣係統、測量係統、進氣係統等部分組成。 本實驗采用同軸二濺射結構，在真空室內以沉積材料為陰，加工樣品為陽，工作期間兩間加直流電壓引起放電，放電氣體中的離子被加速轟擊靶麵，濺射粒子沉積在基片表麵成膜。


    ZH5502直流濺射等離子實驗裝置  的詳細介紹
    產品簡介
      裝置包括可拆卸的濺射腔體、濺射靶台、真空抽氣係統、測量係統、進氣係統等部分組成。
      本實驗采用同軸二濺射結構，在真空室內以沉積材料為陰，加工樣品為陽，工作期間兩間加直流電壓引起放電，放電氣體中的離子被加速轟擊靶麵，濺射粒子沉積在基片表麵成膜。
      可以完成光學薄膜材料的製備及其光學特性的測量、金屬薄膜的製備等實驗。通過這些實驗可讓實驗者理解直流濺射原理，掌握直流濺射薄膜材料的方法。 
    主要特點： 
    1 濺射靶台和濺射靶距離可調節，研究在不同距離時對薄膜濺射的影響；
    2 濺射基片可進行加熱，加熱溫度可控，研究基片溫度對薄膜濺射的影響；
    3 濺射氣壓、濺射氣源流量可調節，研究不同氣壓、氣源流量對薄膜濺射的影響；
    4 反應腔體采用石英玻璃管，可直觀地觀察到濺射現象；
    5 工作氣體可調節*換，並可多路氣體混合工作。 
    主要參數及性能： 
    1、濺射腔體外形尺寸：φ140mm×150mm；
    2、濺射靶台：φ70mm×20mm；
    3、濺射靶台和濺射靶可調距離：10~50mm；
    4、基片加熱溫度可控範圍：室溫~80℃；
    5、濺射氣壓可調範圍：10Pa~200Pa;
    6、濺射電壓：0V~1000V連續可調；
    7、濺射電流：0~200mA可測；
    8、氣源流量可控範圍：6~60ml/min；25~250ml/min；
    9、供電電源：AC220V，50HZ；
    10、整機功率：1.5KW。
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